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真空鍍膜機(jī)

磁控濺射鍍膜機(jī)

產(chǎn)品分類:真空鍍膜機(jī)
點(diǎn)擊次數(shù):4326
發(fā)布時(shí)間:2019-07-18
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產(chǎn)品詳情

應(yīng)用范圍:

    

    各種電器和智能終端的外殼,如電腦 、手機(jī)和家電等??慑冎平饘倌?、透明膜、非導(dǎo)膜、電磁屏蔽膜等

 

 

   

產(chǎn)品特點(diǎn):

   該設(shè)備配置磁控濺射和電阻蒸發(fā)。鍍膜工藝全自動(dòng)控制,運(yùn)行可靠,合格率高,生產(chǎn)成本低。

 

 

磁控濺射鍍膜機(jī)參考選型

 

項(xiàng)目

技術(shù)指標(biāo)

  

型號(hào) 

KSL -1200

KSL- 1600

KSL -2000

腔體

?1200×H800mm

?1600×H1000mm

?2000×H1200mm

工件架轉(zhuǎn)速

0~60RPM(可變)

  

成膜室抽速

3.0×10-3Pa≤30min

  

極限真空度

8.0×10-5Pa

  

鍍膜系統(tǒng)

DC、MF或RF磁控濺射源 

  

濺射靶材

C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各種化合物等 

  

膜厚控制

晶控或光控

  

控制系統(tǒng)

工控電腦+觸摸屏