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真空鍍膜機

化學氣相沉積系統(tǒng)（CVD）

產(chǎn)品分類：真空鍍膜機
點擊次數(shù)：4050
發(fā)布時間：2019-07-18
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產(chǎn)品詳情

應(yīng)用范圍：

    

   半導(dǎo)體芯片行業(yè)、太陽能光伏、LED等行業(yè)的薄膜沉積

   

 

產(chǎn)品特點：

   特別設(shè)計的氣體分布和流場，反應(yīng)壓強自動控制系統(tǒng)。保證沉積的均勻和穩(wěn)定，滿足有源層和鈍化層對薄膜低缺陷和良好界面的要求。 

CVD系統(tǒng)參考選型

 

 

   LPCVD

   MOCVD

   PECVD

  極限真空度
（空載、清潔） 

  

    5X10-3Pa

  

   電源 

  無 

  無

  RF

   前驅(qū)體 

  氣體或液體 

  MO源

   特氣

    基片溫度

   200℃-- -800℃ 

   300℃-- -1500℃ 

   常溫-- -600℃ 

   尾氣處理

     燃燒達標后排放或回收 

  

  系統(tǒng)控制 

  SIEMENS PLC系統(tǒng)，PROFIBUS通訊