Product type
應(yīng)用范圍:
LOW-E、電致變色等建筑玻璃行業(yè)。CIGS、碲化鎘、晶體硅等新能源行業(yè)。平板顯示、觸控面板、手機(jī)前后蓋等消費(fèi)電子行業(yè)。
產(chǎn)品特點(diǎn):
? 大面積鍍膜,多室多靶位,靈活性大;
? 磁導(dǎo)向傳輸系統(tǒng),平穩(wěn)可靠;
? 鍍膜前有離子源對(duì)基片進(jìn)行表面清洗和活化,提高附著力,改善膜層質(zhì)量;
? 真空室加Polycold捕集水蒸汽,提高抽氣能力;
? 便于維修的側(cè)裝分子泵和全開式真空室門;
? 自行開發(fā)的方便的用戶易操作控制軟件;
? 工件架識(shí)別系統(tǒng)運(yùn)用,工藝質(zhì)量有可追溯性;
? 真空室的模塊式設(shè)計(jì),單點(diǎn)定位,便于拆裝。
連續(xù)型鍍膜線參考選型
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
極限真空度 | 8.0×10-4Pa |
基片尺寸 | 不限 |
鍍膜系統(tǒng) | DC、MF或RF磁控濺射源 ;PECVD |
濺射靶材 | C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各種化合物等 |
生產(chǎn)節(jié)拍 | 30秒---180秒 |
控制系統(tǒng) | 工控電腦+觸摸屏 |